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產(chǎn)品詳細說明
美國ACM RESEARCH 單片清洗設備
主要優(yōu)勢
清洗藥液獨立控制，無交叉污染
噴嘴精確控制系統(tǒng)
準確的化學藥液供給
較低的使用成本
優(yōu)質清洗效果
可應用不同種晶圓清洗工藝
高產(chǎn)出
對小顆粒的管控和金屬管控能力
特性和規(guī)格
多可配置8套清洗腔體
多可配置5種藥液進行清洗工藝，RCA藥液，氫氟酸，臭氧水，去離子水等。
可對基板片，外延片的清洗工藝
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